我國的芯片制造到底是受哪些技術制約？
集成電路這一塊我們目前水平和西方國家還是有不小差距，受制于地方主要這兩方面影響大一點，其它方面也是有。第一就是這個芯片的架構都是由ARM公司提供授權，設計芯片需要它這個架構。
第二就是這個設計芯片所需要的輔助EDA軟件，這些基本也是西方國家占據優勢。我們國內也是有一些EDA軟件，但是因為國外的一些EDA盜版軟件在國內橫行，這些國內廠商也是難以翻身。從實際使用來看，國內軟件與國外還是有部分差距。
其實這種放任盜版策略就像微軟公司放任Windows系統盜版橫行一個樣，它的目的就是限制你的國產系統和軟件的發展。
光刻機哪些技術受限制國內也是可以做光刻機，例如上海微電子設備有限公司也是可以生產光刻機，但是與光刻機巨頭荷蘭ASML技術不是一個級別。
目前來說國產光刻機還是以90nm為主，中微半導體做的蝕刻機達到了比較高的水平5nm，而在早兩年前ASML的光刻機就可以做7nm手機處理器。
光刻機所需要關鍵部件就是鏡頭，這個鏡頭是由德國蔡司公司提供。蔡司的鏡頭不對我們出售，它的鏡頭技術得到了幾十年的技術沉淀，同時它也是ASML大股東，給荷蘭ASML提供頂尖的鏡頭。
而我們得不到這些鏡頭，國內的鏡頭生產工藝目前也是達不到蔡司的水平，想要做像ASML一樣的光刻機自然是比較困難。同時還有一個西方制定的《瓦森納協定》簡單來說就是限制我們芯片的發展。
不單單鏡頭一個問題，光源、軸承、以及程序控制、高精度的對準系統等等都是我們國內目前工藝達不到的。ASML能做出頂尖的光刻機也是靠著全球很多家頂尖公司提供的技術進行整合，因此想要做出頂尖光刻機是非常的難，首先你的一些部件生產工藝就得達到頂尖的水平。
結語現在又有報道說美方開始全球范圍內限制華為芯片生產，西方國家一直是想盡一切方法打壓我們國內芯片生產。
從中芯國際前幾年訂購的EUV光刻機一直被推遲發貨，現在也是沒什么信息。再到現在的打壓華為公司，無不透露著西方國家懼怕我們國內科技企業強大。而在芯片設計生產以及光刻機方面，我們仍需要努力，加大科研投入，不斷進行技術積累，才能早日有所突破。
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