中科院光電所驗收通過的超分辨光刻裝備22納米有什么重大意義？

中科院光電所驗收通過的超分辨光刻裝備（22納米）有什么重大意義？無疑這種光刻設備的研制成功具有重大的意義，會大大提升我們在光學器件等方面的制作水平，為今后芯片制造水平的大力提升打下良好的基礎。這種光刻分辨力能達到22納米，并結合多重曝光技術后，可用于制造10納米級別的芯片。

目前的研究成果是具有自主知識產權，在原理上與別人不同，突破了分辨力衍射極限建立一條高分辨、大面積的納米光刻裝備研發新路線，這種路線與ASML這樣的傳統路線是不一樣的。為今后解決更高端納米光學加工提供了另外一種新的解決方向，主要是為材料、表面、光學器件、廣義芯片等提供了一種制造的工具。

芯片一直是我們這種電子產品制造大國的疼，解決不了始終會受制于人，每年大量的財力購買芯片就是一個例證。每一年均以兩位數的百分點在向上增長，2017年一年的集成電路進口金額就達到了2600多億美元。如果我們光刻設備研制成功能夠自給自足，理論上每年可以為我們國內帶來2600多億美元的市場機會，而且還有每年十幾個百分點的增長率。

雖說成功研制并且通過驗收，但真正要做到量產及應用于IC制造，還有較長時間的等待。而且以目前的實力，還是無法撼動ASML在IC制造領域的霸主地位。但至少這種設備在高精密光柵、光子晶體陣列等光學器件的加工上，可以達到相當的水平，甚至可以說是高端。假以時日，能夠進行量產的國產IC制造設備的大批量誕生也并非沒有可能。

當然要真正實現芯片高端制造的國產化，完全替代ASML可并非易事，畢竟ASML可是這個領域的世界霸主，而且是長期的。現在它的目標可已經是對準了3nm、1nm方向在進行研究。不過，中科院光電所的超分辨光刻裝備驗收通過告訴我們，機會還是有的。

更多分享及互動，歡迎點擊右上角關注【東風高揚】。